El rendimiento metrológico de la máquina de nanoposicionamiento y nanomedición depende en gran medida de la precisión de la esquina del espejo estándar. Para determinar las desviaciones de forma de las superficies de la esquina del espejo estándar, se aplicaron y analizaron diversas configuraciones de ensayos de tres planos. Ante todo, era necesario aumentar la estabilidad y la reproducibilidad del sistema de medición y del principio de medición, así como conocer las deformaciones debidas al montaje y al peso en las superficies ópticamente eficaces y corregirlas en la medida de lo posible.

• Implementación de varios modelos básicos de la prueba de tres planos
• Perfeccionamiento del ensayo de tres planos adaptable modificado para la disposición vertical
• Análisis y presupuesto de la incertidumbre
• Transferencia de los datos de medición y referenciación

publicación:

Xu, H.; Müller, A.; Balzer, F.; Percle, B.; Manske, Eberhard; Jäger, Gerd: The complete acquisition of the topography of a special multi-mirror arrangement with the help of a Fizeau interferometer. - In: Conference (Munich): 2009.06.15-18. - Bellingham, Wash. : SPIE (2009)